ФОТОРЕЗИСТ
ФОТОРЕЗИСТ (от фото... и англ. resist - сопротивляться, препятствовать ), полимерный светочувствительный слой, нанесённый на поверхность полупроводниковой пластины с окисной плёнкой. Ф. используются в полупроводниковой электронике и микроэлектронике (см., напр., Планарная технология) для получения на пластине "окон" заданной конфигурации, открывающих доступ к ней травителя. В результате экспонирования Ф. через наложенный на него стеклянный шаблон нужного рисунка ультрафиолетовым излучением (иногда электронным лучом) свойства его меняются: либо растворимость Ф. резко уменьшается (негативный Ф.), либо он разрушается и становится легко удалимым (позитивный Ф.). Последующая обработка растворителем образует в Ф. "окна" на необлучённых участках негативного Ф. или облучённых участках позитивного Ф. Типичные Ф.: негативные - слои поливинилового спирта с солями хромовых кислот или эфирами коричной кислоты, слои циклизованного каучука с добавками, вызывающими "сшивание" макромолекул под действием света; позитивные - феноло- или крезолоформальдегидная смола с о-нафтохинондиазидом. См. также Фотолитография.
Лит.: Фотолитография и оптика, М.-Берлин, 1974; Мазель Е. 3., Пресс Ф. П., Планарная технология кремниевых приборов, М., 1974.
же, что и фотопроводимость.
- Термин
- фоторезист
- Термин на английском
- Синонимы
- Аббревиатуры
- Связанные термины
- литография, травление в литографии
- Определение
- свето- или рентгеночувствительный материал на полимерной основе, используемый для нанесения пленочного покрытия на подложку в литографическом процессе путем его облучения (экспонирования) через маску с проекциями элементов электронной схемы и последующего проявления (травления в растворителе) так, что изображение схемы переносится на подложку.
- Описание
В зависимости от характера изменения структуры и свойств в результате облучения, фоторезисты делят на негативные и позитивные.Если в результате облучения пленка полимеризуется и теряет растворимость, то обработка растворителем (проявление) ведет к удалению только необлученных участков, и на подложке возникает негативное изображение маски. Соответствующие фоторезисты называются негативными. Если после облучения фоторезист становится растворимым, то при облучении через маску и последующем проявлении удаляются облученные участки, и на подложке возникает позитивное изображение маски. Такие фоторезисты называют позитивными. Позитивные фоторезисты позволяют более точно передавать мелкие геометрические детали изображения по сравнению с негативными. Позитивные фоторезисты изготовляют из феноло- или крезолоформальдегидной смолы с о-нафтохинондиазидом, негативные - из поливинилового спирта с солями хромовых кислот или циклизованного каучука с добавками, вызывающими “сшивание” макромолекул при облучении.
- Авторы
- Гусев Александр Иванович, д.ф.-м.н.
- Ссылки
- А. И. Гусев. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. Изд. 2-е, исправленное и до-полненное. Москва: Наука-Физматлит, 2007. 416 с.
- Иллюстрации
-
Установка для нанесения фоторезиста
- Теги
- Разделы
-
Оптическая литография
Управляемые методы формирования наноструктур
1) Орфографическая запись слова: фоторезист
2) Ударение в слове: фоторез`ист
3) Деление слова на слоги (перенос слова): фоторезист
4) Фонетическая транскрипция слова фоторезист : [фатар'из'`ист]
5) Характеристика всех звуков:
ф [ф] - согласный, твердый, глухой, парный
о [а] - гласный, безударный
т [т] - согласный, твердый, глухой, парный
о [а] - гласный, безударный
р [р'] - согласный, мягкий, звонкий, непарный, сонорный
е [и] - гласный, безударный
з [з'] - согласный, мягкий, звонкий, парный
и [`и] - гласный, ударный
с [с] - согласный, твердый, глухой, парный
т [т] - согласный, твердый, глухой, парный
10 букв, 9 звук
photoresist (material)
Синонимы:
Ударение падает на букву: и
Безударные гласные в слове: фоторез`ист
- негативный фоторезист
- плёночный фоторезист
- позитивный фоторезист
– задубленный фоторезист
– засвеченный фоторезист
– обратный фоторезист
– прямой фоторезист
Синонимы:
м.
fotoresist m
Синонимы:
Синонимы:
Синонимы: