IONENSTRAHLLITHOGRAPHIE
Ionenstrahllithographie: übersetzung
Ionenstrahllithographie,
Verfahren der Halbleitertechnologie zur Übertragung von Schaltkreismustern integrierter Schaltungen auf einen Wafer, bei dem (statt UV-Licht, Röntgen- oder Elektronenstrahlen) Ionenstrahlen eingesetzt werden (Lithographie). Dadurch sind Linienbreiten der Leitungsbahnen im Submikrometerbereich möglich. Vorteile gegenüber den anderen genannten Strahlen sind die gute Fokussierbarkeit, der Wegfall von Beugungsproblemen, keine Rückstreuung wie bei den leichteren Elektronen (kein Proximity-Effekt) sowie die Durchführung von selektiver Dotierung durch Ionenimplantation und Ionenstrahlätzen in einer Anlage.